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DEK將在2007華南NEPCON上展示為速度和微型化設計的Photon RTC
來源: emasia-china.com作者: Kenny Fu時間:2026-03-28 18:05:17點擊:8359

在8月28日到8月31日於深圳會展中心舉辦的2007年華南NEPCON展覽會上,DEK將在2G11號展台上展示其為速度和微型化設計的Photon RTC平台。 Photon RTC將向觀眾展示其在同一個平台上實現了傑出的微型化和速度。Photon為當前SMT裝配商提供了下一代工藝能力,實現了傑出的產出量、精度和速度。

在配備DEK的快速輸送導軌(RTC)技術時,Photon實現了無可比擬的核心轉換時間,隻需短短四秒,而不管其它工藝變量如何。 Photon實現了先進的技術指標,包括公認的行業標準工藝功能及不到10分鍾的新產品設置時間,而不會降低穩定性或可重複性。Photon優化的印刷機框架擁有固有的張力和熱量穩定性,為可重複的高良品率和傑出的快速生產速率提供了支持。在華南NEPCON展覽會DEK展台上,觀眾還將看到Photon采用突破性的DEK技術所帶來的優勢。

其中它采用ProFlowDirEKt擠壓印刷技術,這個多次屢獲的封閉式印刷頭技術節約了成本,提供其它工藝優勢。此外,Photon RTC還將展示DEK公司屢獲大獎的Cyclone網底清潔技術,與傳統網底清潔技術相比,其清潔時間縮短了一半。 Photon RTC為當前SMT裝配商提供了下一代工藝功能,進一步體現了DEK公司期待更多的企業理念。

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